米乐app下载:2nm以下芯片倒计时！ASML官宣最强光刻机行将出货第一批芯片

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  ASML CEO傅恪礼近来正式揭露宣告，第一批选用新一代高数值孔径（High-NA）EUV光刻机制作的芯片产品将在未来数月内面世，掩盖逻辑芯片与存储芯片两大中心范畴。

  傅恪礼指出，High-NA EUV光刻机作为面向2nm以下先进制程的中心图形化设备，可以更好的下降顶尖芯片的电路光刻成型本钱，一起适配AI芯片、HBM/DRAM等高端存储芯片的制作需求。

  他着重，虽然设备初期投入昂扬，但规划初衷正是随技能老练与规模化使用，逐渐摊薄单颗芯片的光刻本钱。

  这套设备的价格十分贵重。就在数周前，ASML最大客户台积电曾揭露表明，单台High-NA EUV光刻机造价高达4亿美元，约为现有EUV设备的两倍，暂不具有大规模选用的条件。

  相比之下，英特尔则活跃收购High-NA EUV光刻机，并已在波特兰工厂完结两台High-NA EUV光刻机的装置，累计处理超越3万片晶圆，方针是在2027至2028年完结14A制程大规模量产。

  据悉，SK海力士也清晰说方案选用该新技能，估计本年初次导入，用于下一代DRAM内存的出产。

  相较于传统EUV，High-NA经过提高光学系统分辨率，可完结尺度缩小高达66%的特征，相当于相机对焦更为精准，是打破先进制程物理极限的关键技能。

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